以下几种类型的真空泵更适合半导体制造行业:
干式真空泵
多级罗茨泵:可从大气压抽到极限压力 1Pa,能在较宽压力范围内保持高抽速,适用于半导体制造中的负载锁、输送、计量等环节。在控制体积、成本和节电方面表现优异,常作为大腔体抽真空的主泵或预抽泵,与其他类型泵组合成罗茨 + 螺杆泵机组等形式。
爪式泵:采用多级爪式设计,可处理可凝性气体和粉尘,维护周期长。转子对悬浮在泵腔内,无摩擦接触,能在真空大频繁切换的条件下保持良好的使用寿命,适用于高真空要求的半导体工艺,如真空干燥、等离子清洗等。
螺杆泵:采用变径变距锥形螺杆技术,极限真空可达 1Pa 以下,具备稳定的抽气速度、低维护成本和长寿命设计,支持风冷或水冷系统,能够处理微粒和可冷凝气体,适合半导体制造中的严苛工艺环境,如化学气相沉积(CVD)和蚀刻工艺。
涡轮分子泵:通过高速旋转的刀片快速排出气体,能实现高真空水平,具有无油和高真空特性,符合半导体制造工艺所需的高纯度环境,可用于制造高质量的半导体器件。不过,涡轮分子泵通常价格较高,且对氦、氢等轻质气体的排气速度相对较低,常与干泵或旋转泵等辅助泵组合使用,应用于半导体制造中的离子注入、光刻等对真空度要求极高的环节。
此外,在一些特定的半导体制造工艺中,也会用到其他类型的真空泵或真空系统组合。例如,在某些辅助工艺中可能会使用干式涡旋泵,其结构紧凑、运行安静、无油设计保障洁净度,常用于真空吸附、材料输送等。 |